表面處理設(shè)備
VacuLAB-X小 型實(shí)驗(yàn)室用真空等離子設(shè)備
產(chǎn)品特征:
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·使用簡(jiǎn)便 ·處理速度快 ·真空度 ·集成的放電發(fā)生器 ·過程控制 ·等離子過程可視化 ·測(cè)試效果通用 |
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供實(shí)驗(yàn)室測(cè)試和小批量生產(chǎn)使用的臺(tái)式真空等離子設(shè)備
Tantec的VacuLAB是VacuTEC設(shè)備的精簡(jiǎn)版。VacuLAB可用于小批量的測(cè)試，并且用戶可控制所有參數(shù)。采用VacuLAB測(cè)試的結(jié)果也可應(yīng)用到VacuTEC設(shè)備中。
VacuLAB是根據(jù)VacuTEC設(shè)備而專門設(shè)計(jì)的小型設(shè)備，具有體積小，方便攜帶等特點(diǎn)，既可以在實(shí)驗(yàn)室即時(shí)完成各種樣品的效果測(cè)試，也可以用于小批量的生產(chǎn)。
VacuLAB集成proface面板，更加有利于控制和監(jiān)控參數(shù)變化的整個(gè)過程。
VacuLAB采用標(biāo)準(zhǔn)的陶瓷絕緣電極，保證了測(cè)試效果同樣適用于VacuTEC設(shè)備。
VacuLAB的倉門是透明的，因此用戶可觀察到等離子放電處理產(chǎn)品的全過程。
特點(diǎn)：
·使用簡(jiǎn)便 在實(shí)驗(yàn)室中可對(duì)各種部件進(jìn)行測(cè)試，連接電源和裝置即可。
·處理速度快 材質(zhì)不同，處理所需時(shí)間不同，一般為10-180s。
·真空度 處理過程中處理倉中的真空度為1-4mbar。
·集成的放電發(fā)生器 300w的放電發(fā)生器與設(shè)備集成為一體，可通過觸摸屏上進(jìn)行控制。
·過程控制 通過內(nèi)置的proface面板和PLC裝置，可控制和監(jiān)控整個(gè)處理過程。
·等離子過程可視化 處理倉門是透明材質(zhì)制作，可以觀察到等離子處理的過程。
·測(cè)試效果通用 測(cè)試的效果也適用于VacuTEC。
